Topklean™ EL 20A

  • Reinigungsmittel zur Entfernung von Flussmittelrückständen
  • Co-Lösungsmittel-Verfahren
  • Schnellster Reinigungsprozess & nachhaltige Lösung

TOPKLEAN EL 20A ist speziell für die Reinigung von Flussmittelrückständen nach dem Reflowprozess entwickelt worden. Es wird im Co-Solvent-Verfahren verwendet, um einen schnellen und nachhaltigen Reinigungsprozess mit sehr hoher Reinigungseffizienz zu ermöglichen. Dank seiner hervorragenden Fähigkeit, organische und mineralische Verbindungen zu lösen, kann es fast alle Flussmittelrückstände entfernen, die heute in der Elektronikindustrie verwendet werden. Es bringt auch einen Glanzeffekt auf Legierungen und Metalle.

In einem Co-Solvent-Verfahren wird TOPKLEAN EL 20A perfekt mit Hydrofluorethern (HFE) basierten Spülflüssigkeiten von 3MTM NovecTM oder unserer eigenen PROMOSOLVTM Reihe gespült. Dank der sehr geringen Oberflächenspannung von HFE dringt die Spülung auch in sehr enge Räume und unter Bauteile mit geringem Abstand ein. Es löst alle verbleibenden Flussmittelrückstände auf, was zu einer sehr geringen ionischen Verunreinigung führt. Außerdem besteht im Vergleich zu einem Reinigungssystem auf Wasserbasis keine Korrosionsgefahr, da kein Restwasser auf den Platten zurückbleibt.

TOPKLEAN EL 20A in Verbindung mit dem Co-Solvent-Verfahren hat sich seit über 15 Jahren als wegweisend erwiesen und wird von mehreren Akteuren in der Elektronikindustrie qualifiziert und eingesetzt.

Vorteile

Leistung

  • Ausgezeichnete Löslichkeit von organischen und mineralischen Rückständen
  • Ausgezeichnete Kompatibilität mit den auf Leiterplatten verwendeten Materialien
  • Perfekte Reinigung, auch bei engen Platzverhältnissen und unter niedrig stehenden Bauteilen
  • Ermöglicht Glanzeffekt auf empfindlichen Legierungen und gelöteten Oberflächen
  • Wasserloses Verfahren – reduziert das Korrosionsrisiko

Kosten

  • Schnelles Verfahren ermöglicht Steigerung der Produktionskapazität
  • Die Spülflüssigkeit wird ständig recycelt, was den Verbrauch reduziert.
  • Kein Wasserverbrauch und keine Notwendigkeit zur Abwasserbehandlung

HSE

  • Geringe Toxizität (siehe SDS)
  • Kein Ozonabbaupotenzial (ODP) und kein Treibhauspotenzial (GWP)
  • Hoher Flammpunkt – sicher in Anwendung, Lagerung und Transport
  • Keine Aromaten und halogenierten Verbindungen

Beispiele für Prozesse

Welches Verfahren am besten geeignet ist, hängt von Faktoren wie den Betriebsbedingungen, der Ausrüstung, der gewünschten Reinigungsdauer und der Art der Verschmutzung ab. Unser Team ist bereit, Sie zu beraten.

ABGETRENNTES CO-LÖSUNGSMITTEL

GEMISCHTES CO-LÖSUNGSMITTEL