3M™ Novec™ 71IPA

  • Lösungsmittel zur Entfernung von leichten Ölen und Partikeln und zum Spülen
  • Mono-Lösungsmittel, Co-Lösungsmittel, Spül- und Trocknungsverfahren
  • Sehr geringe Auswirkungen auf HSE und sehr geringe Oberflächenspannung

3M Novec 71IPA Engineered Fluid ist ein Hydrofluorether, Methoxy-Nonafluorbutan (C4F9OCH3), in einer azeotrop-ähnlichen Formulierung mit Isopropanol.Diese Flüssigkeit ist ideal für leichte Reinigungs- und Entfettungsaufgaben und soll ozonabbauende Materialien wie FCKW-113, HFCKW-14lb und 1,1,1-Trichlorethan in vielen Anwendungen. Es enthält kein Ozon Erschöpfungspotenzial und andere günstige Umwelteigenschaften (siehe Tabelle 2). Die Flüssigkeit Novec 71IPA hat einen niedrigen toxikologisches Profil, mit einem zeitgewichteten durchschnittlichen Expositionsrichtwert von 750 ppm für den 3M Novec 7100 Engineered Fluid Komponente (acht Stunden Durchschnitt).

Die erhöhte Löslichkeit von polaren Verschmutzungen und die niedrige Oberflächenspannung, die Nichtentflammbarkeit und die konstante Zusammensetzung während des Kochens der Novec 71IPA-Flüssigkeit machen sie ideal für Präzisions- und Spezialreinigungs- und Spülvorgänge zur Entfernung von Partikeln, Fingerabdrücken und leichten Verschmutzungen von Metall-, Kunststoff- und Glasteilen.

Anwendungen
  • Präzisionsreinigungs-, Spül- und Trocknungsmittel Leichte Reinigung von Ölen, Fetten, Wachsen, Fingerabdrücken
  • In Kombination mit Co-Lösemitteln wie Topklean EL 20 oder Topklean EL20P für die Entfernung von „no-clean flux“-Rückständen verwenden.

Letter from 3M – Inventec authorized distributor for EMEA area

Dies ist ein wertvolles Produkt für unser ECOPROGRAM

Produkte, die für unser ÖKOPROGRAMM wertvoll sind, können zum Recycling an uns zurückgegeben werden (je nach Standort).

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Vorteile

PERFORMANCE

  • Thermisch und chemisch stabil in der Anwendung (azeotrope Formulierung)
  • Die sehr niedrige Oberflächenspannung ermöglicht die Tiefspülung von Teilen mit komplexer Geometrie
  • Kurze Spül- und Trocknungszeiten

KOSTEN

  • Kontinuierliches Recycling in der Anlage für eine lange Lebensdauer des Bades
  • Kann zum Recycling und zur Wiederverwendung zurückgegeben werden
  • Der relativ hohe Siedepunkt verringert das Risiko der Verschleppung von Lösungsmitteln und begrenzt somit den Verbrauch

HSE

  • Sehr geringe Toxizität (siehe SDS)
  • Kein Ozonabbaupotenzial (ODP) & geringes Erderwärmungspotenzial (GDP)
  • Nicht entflammbar

Beispiele für Prozesse

Welches Verfahren am besten geeignet ist, hängt von Faktoren wie den Betriebsbedingungen, der Ausrüstung, der gewünschten Reinigungsdauer und der Art der Verschmutzung ab. Unser Team ist bereit, Sie zu beraten.

Abgetrenntes Co-Lösungsmittel

Gemischtes Co-Lösungsmittel

Anwendungen

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TROCKNUNG VON HALBLEITERWAFERN

Novec™ 7100 oder Novec™ 71IPA werden als Trocknungsmittel für Halbleiterwafer als Drop-in-Alternative zu IPA verwendet.