我们的专业抛光膏去除系统可彻底、稳定清除残留化合物,确保表面洁净无瑕,提升工艺可靠性,为高精度抛光与精加工应用提供卓越解决方案。
高效去除顽固的抛光膏和抛光化合物,需要定制化的清洗解决方案,以保护敏感合金、防止腐蚀,并确保抛光残留物彻底清除,从而提升零件质量与性能。
每位客户在清除抛光膏和抛光化合物方面的要求各不相同。所涉及的金属种类、零件的大小和复杂性、抛光膏的成分(矿物性或有机性)、生产效率,以及环保要求如节水等,都会影响清洗方法的选择。
在去除抛光化合物的过程中,避免对敏感合金造成损伤是主要挑战之一。如何在不产生微点腐蚀的情况下,彻底去除如黄铜、蒙乃尔合金或金属网等材质上的抛光残留?选用合适的抛光剂去除剂对于保持部件完整性和外观至关重要。
INVENTEC 提供全系列水基、溶剂型及混合型清洗配方,满足您工业中抛光膏清洗的各种需求。
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抛光膏去除工艺旨在高效彻底地清除工业抛光过程中残留的磨料化合物,确保工件表面干净、均匀,并为后续的精加工做好准备。
正确去除抛光膏可防止表面污染,保证加工一致性,并避免后续工序出现缺陷,从而提高工艺可靠性和零件使用寿命。
金属、合金和塑料等高精度组件的表面尤其需要彻底去除抛光膏,特别是在要求光学表面或严格公差的应用中。
通过专用系统控制机械作用、化学配方和操作参数,可以实现每批次或每件工件的重复性高、稳定的去除效果。
是的。像INVENTEC这样的公司开发了先进的抛光膏去除方案,能够提供精确高效的去除效果,同时保证表面完整性。
适当的去除工艺可以改善表面为后续处理(如涂层、喷漆或保护处理)的附着性,确保最终产品达到高质量标准。
现代解决方案旨在减少有害废物、降低环境影响,并符合工业安全标准,同时保护操作人员和环境。
建议使用合适的浓度、控制处理时间,并确保足够的循环或机械作用,以完全去除残留物,同时避免损伤工件表面。
根据抛光膏类型、材料和所需表面效果调整浓度、温度和处理时间。在试样上进行预实验可帮助确定最佳参数。
INVENTEC Performance Chemicals 提供技术数据表、应用指南及工业支持,帮助实现高精度抛光和精加工应用。
Inventec 拥有一支遍布全球的专业技术支持团队,可在我们合作的不同阶段为您提供帮助。
根据您的要求,我们提供在线或现场支持
为了了解我们的产品是否符合您对特定部件的期望并根据您所需的流程,我们在我们的技术中心提供免费清洁试验。 将提供一份全面的技术报告,详细说明有关工艺和工艺参数的所有测试结果和建议。 你想参加审判吗? 我们很高兴欢迎您。