抛光膏残留去除工艺
我们的专业抛光膏去除系统可彻底、稳定清除残留化合物，确保表面洁净无瑕，提升工艺可靠性，为高精度抛光与精加工应用提供卓越解决方案。
抛光膏残留高效去除专家解决方案
彻底清除顽固抛光膏及抛光化合物残留，需采用定制化清洁方案——在保护敏感合金、防止腐蚀的同时实现卓越清洁效果，确保部件质量与性能最优。
不同客户对抛光膏及抛光化合物去除的需求差异显著。金属种类、部件尺寸与复杂度、抛光膏成分（无机或有机）、生产吞吐量，以及废水处理等环保要求，均会影响高效清洁方案的选择。
抛光化合物去除的核心挑战之一在于避免精密合金损伤。如何在对黄铜、蒙乃尔合金或网状金属等敏感材料进行抛光残留彻底清除时，同步防止微点蚀？选择正确的化合物去除剂对维持部件完整性与外观至关重要。
INVENTEC提供针对此类复杂需求的专家级解决方案。通过全系列产品（包括水性溶液、溶剂及混合配方），我们可为您定制清洁工艺，实现：
- 抛光膏去除效率最大化
- 清洁质量显著提升
- 整体流程成本降低
无论您需要强力工业级抛光化合物去除剂，还是温和不伤合金的化合物清除方案，INVENTEC均能提供稳定卓越的清洁效果。
产品概览
我们仅展示以下系列中最相关和最新的产品。如果未找到特定产品，您可以通过我们的搜索选项查找。
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PROMOSOLV NEO B1
- 去除多种污染物
- 用于气相 工艺
- 不含 GWP 和 PFAS
- 3M Novec 71DE, Novec 72DE, Novec 73DE 和 Novec 8200 替代品
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技术支援
Inventec 拥有一支遍布全球的专业技术支持团队，可在我们合作的不同阶段为您提供帮助。
根据您的要求，我们提供在线或现场支持
- 根据您的特定需求选择合适的产品
- 协助您完成产品认证流程
- 指导您在全球所有制造工厂进行初始流程设置
- 对批量生产过程中随时可能出现的技术问题提供快速响应。
免费清洁试验
为了了解我们的产品是否符合您对特定部件的期望并根据您所需的流程，我们在我们的技术中心提供免费清洁试验。 将提供一份全面的技术报告，详细说明有关工艺和工艺参数的所有测试结果和建议。 你想参加审判吗？ 我们很高兴欢迎您。